■ 6月26日〜7月9日 12:00〜20:00（最終日〜19:00）
■ resist （写真・グループ展）

フォトワークショップresist2期生　修了写真展「表明」
会期：2008年6月26日（木）〜7月9日（水）
会場時間：12時〜20時（最終日は17時まで）　（入場無料）
オープニングパーティー：6月27日（金）19時〜21時　（参加無料）

〔resist とは〕
メイン講師吉永マサユキ氏、特別講師森山大道氏による、写真のワークショップです。
2006年より始まったresistは、写真の技術習得を目的とはせず、
写真表現とは、写真を撮って生きるとは、といった概念的なものを追求していく、
新しい形のワークショップです。既存の価値観やマーケットにとらわれず、新しい才能を発掘し、
表現し続けるスタミナをつけて行くことを目標にしています。
半年間の工程の中で、各授業に講師として様々な分野で活躍されている方々をお迎えし、
講義を受けました。それを骨身に染み込ませて生まれた、
新しい作品をここに展示致します。これは、若い作家たちのこれからの活動の表明であります。

同時にresist2期生＋吉永マサユキ・森山大道による写真集を発行致します。
デザイン：町口覚
2008年6月発行予定　（発行：Roonee247Photography）

[記事掲載用資料、画像請求、取材、その他問い合わせ]
tel. 090-8052-6822  mail.(pc)  sachks119@hotmail.com
担当：柴田祥子
web site : http://www.roonee.com/resist/index.html